本文标题："材料显微镜-什么样的物质称为介电材"
发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------
人浏览过-----时间：2013-6-19 5:27:34
材料显微镜-什么样的物质称为介电材
一般材中的原子、分子或子受到电场作用后，正负电荷的中心位置
会因为电场作用而移动并产生电偶极距
(dipole moment)。这种因为电场
作用而诱导产生的电偶极距称为诱导偶极，
如果物质具有明显的诱导极化现象称为介电材
随着场效电晶体尺寸微缩，闸极氧化层的厚
也迅速下，随之而闸极电和可靠问题越越严重，使得闸极
氧化层厚无法变薄。兼顾再提高闸极电容值和低闸极电的前
提下，唯一的解决办法就是将闸极氧化层替换为高介电常材
高介电材之薄膜制程方法
一般高介电材的薄膜成长有多种方式，无线电频溅镀法
(Radio Frequency Sputtering)、脉冲射蒸镀(Pulse Laser Deposition)、
反应性电子束蒸镀
(Reactive Electron Beam Evaporation)、分子束晶(Molecular
Beam Epitaxy)、有机属化学气相积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)等，
前四项皆属于物气相法，为目前常用镀膜技术优
比较，在这些薄膜积方法中，有机属化学气相积虽然有较快的
积速，但因积基板温高达900℃，这将使基板材受到限制
准分子射溅镀原
准分子射溅镀
(Excimer Laser Sputtering)制程是最近发展成熟的薄膜
材制程技术之一，具有相当多的特点，准分子射溅镀只要控制几个
制程，如：射波长能与脉冲频，就能针对于多种靶材以脉
冲准控制薄膜厚达到多层膜结构、超晶格结构及米结构、磁性
材、高温超导材、铁电材等薄膜结构制作，尤其是准分子射脉
冲时间极短
(25ns以下)、能极高(可达5J/cm2以上)，靶材组成元素
或复合物能在材表面上还没达到热平衡时即被瞬间气化，而所喷出
的高动能原子气体元素成份，比与靶材相同，因此能直接按原有靶材
组成比积于基板上，其成份之控制比其它物气相镀膜技术为佳；
原因是物沉积化合物达到热平衡时，气态的元素比与其蒸气压有
关，蒸气压高的元素其含较高，低的元素含较低，因此容控制
化合物沉积比，准分子射溅镀技术运用在复合材薄膜特别有效；
其次，由射溅镀出的靶材气体分子因为吸收紫外光射的能具有
相当高的动能，可增加表面原子间的化学链结，但可促进薄膜的成长
能因此而低基板成长温，使成长出薄膜有好的晶品质。
准分子射溅镀用高功脉冲射之高能光子所产生的热效
应及光解效应
(photolysis)，使材表面于瞬间(~10-9 sec)吸收光子能
，产生热电子
(hot electrons)，热电子将能转换成晶格振荡之声子
(latticer vibration)能而致使表面温上升达到蒸发。另外光解效应是
用射高能光子将材表面原子间的键结打断，达到原子的剥
(ablation)。因为大部份材对紫外光的吸收较强且吸收深(depth of
absorption)浅，主要是用紫外光高能光子将材气化或原子间的键
结打断，积至所要的基板上
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