本文标题："不同的显微微观测量技术在工业制造的应用简介"
发布者：yiyi ------ 分类: 行业动态 ------
人浏览过-----时间：2015-6-28 18:43:36
不同的显微微观测量技术在工业制造的应用简介
如果能保证形成和利用参考光波的元件稳定，那么第一个条
件比较容易做到。必须把照像底版放置到，在它上面进行记录全
息图时的位置上，才能保证第二个条件。
在不同的时间以真实比例进行的干涉测量，可以观察并不间
断地记录(例如， 用显微摄影机)受动力载荷而变形的过程；可
以实现随机检验，并将各种透明物体和镜象眨射物体的废品挑出
。这样便解决了用干涉图象测定零级条纹和变形变化的规律的困
难。一个全息图可以记录许多各种相位的和发散的反射物体的干
涉图，这样可以加速检验过程。为此，必需有专门的装置，使全
息阂亿曝光的位置上进行显影，或是精确地安装处理后的全启、
图。
两次曝光的全息干涉测量技术，就是全息图在显影处理之前
进行两次曝光：一次在表面原始状态时曝光；另一次在表面受到
变形后曝光。这两次曝光用同样的参考光波。这种方法不会产生
再现光波与物体光波重合的问题。全息图两次曝光结束后，无论
是物体本身，还是全息照像装置的光学元件就都不很重要了。无
论是显示表面原始状态的比较光波，还是相当于变化了的表面光
波， 用与原始参考光波相仿的光波照射全息图时，都可以同时
使
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